VTC-5RF五靶頭等離子射頻磁控濺射儀
產(chǎn)品概述：
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對于高通量MGI（材料基因組計劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過5種元素，按16種不同配比組合。
主要特點：
l 多種濺射靶頭及電源可選，自由組合，具體請致電我公司銷售部。
l 根據(jù)所使用的電源（DC或RF），可以沉積金屬或非金屬材料。
l 一個旋轉(zhuǎn)開關(guān)可以依次激活濺射頭，可在真空或等離子體環(huán)境中自動切換，不影響真空度。
l 可以安裝五種不同材料的靶材，每個靶頭可單獨設(shè)置濺射時間功率等參數(shù)，用于生長不同成分的薄膜。
l 可選購多個射頻電源，同一時間濺射多個靶材。
l 可選配設(shè)備控制軟件，用電腦控制濺射的所有參數(shù)。
濺射腔體：
l 真空腔體采用304不銹鋼制作
l 腔體內(nèi)部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm
H (105 L)
l 鉸鏈式腔門，直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃窗口
濺射頭&樣品臺：
l 5個1英寸的磁控濺射頭，帶有水冷夾層
l 濺射腔體內(nèi)安裝有電動擋板
l 濺射距離:濺射距離可調(diào)
l 濺射角度:濺射角度可調(diào)
l 實驗時，需要將靶材和靶材的銅墊片用導電銀漿粘合粘合，（可在本公司購買導電銀漿）
l 可以單獨訂購RF連接線作為備用
l 設(shè)備需要一臺水冷機，用于靶頭冷卻
樣品臺：
l 直徑為150mm的樣品臺，上面覆蓋一旋轉(zhuǎn)臺，帶有10mm的孔洞，每次露出一個樣品接收濺射成膜。
l 樣品臺尺寸：Φ150mm,可通過程序控制來旋轉(zhuǎn)，可制作16種不同組分的薄膜
l 樣品臺可以加熱，*高溫度可達600℃（根據(jù)配置不同可能會有變動，具體請咨詢銷售部）
真空系統(tǒng)：
l 安裝有KF40真空接口
l 真空度：4.0e-5Torr(分子泵）（參考值，具體請點擊）
l 可在本公司選購各種真空泵
進氣：
l 設(shè)備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
l 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流
靶材：
l 所要求靶材尺寸：直徑為25mm,*大厚度3mm
l 可在本公司選購各種靶材
薄膜測厚儀（可選）：可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
凈重：60Kg（不包括泵)
質(zhì)量認證：CE認證
使用提示：
l 此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細溝通
l 為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
l 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
l 要達到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面
l 超聲波清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。
l 等離子清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
l 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。
警告：
l 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
l 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
l 濺射頭連接到高電壓。為了**，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶
